Current filters:
Start a new search
Add filters:

Use filters to refine the search results.

Results 1-10 of 21 (Search time: 0.004 seconds).
Item hits:
Issue DateTitleAuthor(s)
2015-05-18; 2006-04Effects of model polymer chain architectures and molecular weight of conventional and chemically amplified photoresists on line-edge roughnessΠάτσης, Γεώργιος; Γογγολίδης, Ευάγγελος
2015-05-18; 2006-04A review of line edge roughness and surface nanotexture resulting from patterning processesΓογγολίδης, Ευάγγελος; Κωνσταντούδης, Βασίλειος; Πάτσης, Γεώργιος; Τσερέπη, Αγγελική
2015-05-18; 2006Simulation of material and processing effects on photoresist line-edge roughnessΠάτσης, Γεώργιος; Nijkerk, M. D.; Leunissen, L. H. A.; Γογγολίδης, Ευάγγελος
2015-05-17; 2008-05Stochastic simulation studies of molecular resists for the 32 nm technology nodeΔρυγιαννάκης, Δ.; Πάτσης, Γεώργιος; Τσικρικάς, Ν.; Κόκκορης, Γ.; Μπουντούβης, Ανδρέας
2015-05-17; 2009-04Advanced lithography models for strict process control in the 32 nm technology nodeΠάτσης, Γεώργιος; Δρυγιαννάκης, Δ.; Ράπτης, Ιωάννης; Γογγολίδης, Ευάγγελος; Erdmann, Andreas
2015-05-19; 2005-08-05Effects of photoresist polymer molecular weight and acid-diffusion on line-edge roughnessΠάτσης, Γεώργιος; Γογγολίδης, Ευάγγελος; vanWerden, K.
2015-05-19; 2005-07-18Material and process effects on line-edge-roughness of photoresists probed with a fast stochastic lithography simulatorΠάτσης, Γεώργιος; Γογγολίδης, Ευάγγελος
2015-05-19; 2001-09Surface and line-edge roughness in plasma-developed resistsΤσερέπη, Αγγελική Δ.; Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ.; Τέγκου, Ευαγγελία; Ράπτης, Ιωάννης Α.; Γογγολίδης, Ευάγγελος
2015-05-19; 2005-03Determining the impact of statistical fluctuations on resist line edge roughnessLeunissen, L. H. A.; Ercken, Monique; Πάτσης, Γεώργιος
2015-05-20; 2003-06Roughness analysis of lithographically produced nanostructuresΠάτσης, Γεώργιος; Κωνσταντούδης, Βασίλειος; Τσερέπη, Αγγελική; Γογγολίδης, Ευάγγελος; Grozev, Grozdan